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Poudre de bore cristalline 5N 6N pour semi-conducteurs

Le bore cristallin est un additif fonctionnel inorganique important dans le domaine industriel. Il s’agit d’une phase β du bore élémentaire, présentant une structure cristalline icosaédrique rhombique. Il possède une forte inertie chimique, une dureté mécanique élevée et un point de fusion élevé. Le bore cristallin se présente sous forme de granulés et de poudre, et sa couleur est gris-noir. Il est largement utilisé dans des secteurs tels que les semi-conducteurs, l’optique, les batteries thermiques et les matériaux céramiques en poudre.

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Poudre de bore cristalline 5N 6N pour semi-conducteurs

Le bore cristallin est un additif fonctionnel inorganique important dans le domaine industriel. Il s’agit d’une phase β du bore élémentaire, présentant une structure cristalline icosaédrique rhombique. Il possède une forte inertie chimique, une dureté mécanique élevée et un point de fusion élevé. Le bore cristallin se présente sous forme de granulés et de poudre, et sa couleur est gris-noir. Il est largement utilisé dans des secteurs tels que les semi-conducteurs, l’optique, les batteries thermiques et les matériaux céramiques en poudre.

La granulométrie standard de notre poudre de bore CRYSTALLINE est de 15 à 60 µm ; la granulométrie conventionnelle des particules de bore CRYSTALLINE est de 1 à 10 mm (une granulométrie spéciale peut être personnalisée selon les besoins du client), généralement divisée en cinq spécifications 2N, 3N, 4N, 5N et 6N en fonction de la pureté.

Index des produits :
Formule moléculaire :B
CAS7440-42-8
Densité2,3 g/cm3
PhasePhase β-B
Point de fusion2300°C
point d’ébullition2550°C
Dureté Mohs>9
Masse atomique relative10,81
isotopes stables10 B, 11 B
CouleurGris foncé, noir

 

Composition chimique :
Chimique2N BORE CRISTALLIN3N BORE CRISTALLIN4N BORE CRISTALLIN5N BORE CRISTALLIN6N BORE CRISTALLIN
B≥99%≥99,9%≥99,99%≥99,999%≥99,9999%
Fe≤500 ppm≤200 ppm≤90 ppm≤8 ppm≤0,5 ppm
Au≤2,5 ppm≤0,08 ppm≤0,06 ppm≤0,02 ppm≤0,02 ppm
À≤1 ppm≤0,8 ppm≤0,3 ppm≤0,03 ppm≤0,03 ppm
Avec≤12 ppm≤10 ppm≤0,1 ppm≤0,03 ppm≤0,03 ppm
Sn≤30 ppm≤9 ppm≤0,1 ppm≤0,1 ppm≤0,08 ppm
Mn≤300 ppm≤3 ppm≤1,1 ppm≤0,1 ppm≤0,07 ppm
Pb≤0,08 ppm≤0,3 ppm≤1,1 ppm≤0,08 ppm≤0,02 ppm
Que/≤18 ppm≤0,2 ppm≤0,1 ppm≤0,01 ppm
Comme///≤0,08 ppm≤0,01 ppm
DANS///≤0,05 ppm≤0,02 ppm
Ge///≤0,05 ppm≤0,04 ppm

 

Taille et emballage typiques :
TENEUR EN BORETAILLE TYPIQUEEmballer
991-5 μm, 10-30 μm, 50-100 μm1 kg/5 kg Emballé sous vide dans un sachet en aluminium (poudre nano uniquement scellée, sans vide).
99,9-200 Mesh, 0-10 μm, 1-10 mmpoudre : 1 kg/5 kg, conditionnée sous vide dans un sachet en aluminium.  

Type granulaire : 50 g/500 g/1000 g conditionnés en bouteille PP, remplis de gaz inerte pour la protection.

99,99-200 Mesh, 1-10 mmConditionné en flacon PP de 50 g/100 g, rempli d’un joint sous gaz inerte.
99,999
99,9999

 

Application:

  1. Applications du bore cristallin dans l’industrie nucléaire :

Crystalline boron plays a crucial role in the nuclear energy field. It can be used as a neutralization control material in nuclear reactors, primarily to compensate for and regulate neutralization reactivity and to facilitate emergency shutdowns, thus maintaining stable reactor operation. Crystalline boron not only has a high neutralization absorption cutoff but also a wide range of neutralization energy absorption, effectively reducing or regulating the neutralization flux generated by nuclear energy, thereby ensuring the safety of the nuclear energy system.

 

  1. Applications of Crystalline Boron in Semiconductor Manufacturing:

Crystalline boron is also widely used in the semiconductor industry. As a p-type dopant, crystalline boron can be used to modify the conductivity of semiconductor materials. By doping crystalline boron into silicon, the conductivity properties of silicon can be altered, thereby manufacturing semiconductor devices with different conductivity types, such as diodes and field-effect transistors. In addition, crystalline boron can also be used as a raw material for growing long-lasting semiconductor single-crystal materials. Boron-doped silicon single crystals can be grown using a melt-blown method for fabricating high-performance semiconductor devices.

99.9% purity crystalline boron powder is used in the production of solar silicon wafers as a substrate dopant for P-type silicon wafers and as a boron emitter diffuser for N-type silicon wafers. High-purity boron powders of 5N and 6N can be used as dopants for P-type semiconductors to alter their conductivity and are used in the production of high-purity silicon wafers.

 

  1. Applications of Crystalline Boron in Optics:

Crystalline boron also has extensive applications in optics. Due to its excellent nonlinear optical properties, crystalline boron can achieve functions such as light modulation, frequency sweeping, and frequency doubling. Therefore, crystalline boron is widely used in optical devices, including optical modulators, optical frequency combs, and lasers. Furthermore, crystalline boron can also be used as a gain medium in infrared lasers, exhibiting a large emission cutoff and a wide excitation spectrum range.

 

  1. In High-Hardness Ceramic Materials:

Crystalline boron can also be used to prepare high-hardness materials, such as boron carbide (B4C) and graphite boron compounds (Bg). Boron carbide is an extremely hard ceramic material with excellent wear resistance and high-temperature resistance, and is therefore widely used in the manufacture of bulletproof armor, hard tools, abrasives, and wear-resistant ceramics. Graphite boron compounds are materials with a graphite-like structure, exhibiting high electrical conductivity and thermal stability, and can be used to prepare high-performance conductive binders, thermally conductive materials, and friction materials.

 

  1. Applications of Crystalline Boron in Thermal Batteries:

Les batteries thermiques sont des batteries monophasées à activation thermique utilisant un sel fondu comme électrolyte. Elles présentent des avantages tels que leur petite taille, leur légèreté, leur longue durée de stockage, leur fonctionnement sans entretien, leur activation rapide et fiable, ainsi qu’une large plage de températures de fonctionnement. Elles sont largement utilisées dans les systèmes d’allumage de certaines armes stratégiques et conventionnelles. Le matériau d’anode d’une batterie thermique joue un rôle déterminant sur sa capacité, son volume et sa puissance. Les matériaux d’anode des batteries thermiques ont évolué, passant des premiers matériaux à base de magnésium et de calcium aux matériaux actuels à base de lithium. Parmi eux, les composites Li-B possèdent des avantages remarquables tels qu’une densité énergétique élevée, une puissance élevée, une faible polarisation, un potentiel électrochimique proche de celui du lithium pur et une stabilité à des températures supérieures à 600 °C. Il s’agit du matériau d’anode le plus prometteur pour les batteries thermiques, et son utilisation se généralise progressivement dans les batteries thermiques haut de gamme.

 

  1. Le bore cristallin dans l’industrie militaire :

Le bore cristallin peut être utilisé pour fabriquer des matériaux balistiques en céramique de bore de haute pureté, des agents retardateurs de bore de haute pureté, des flux de soudage de bore de haute pureté, des explosifs de bore de haute pureté et des propergols de fusée riches en carburant et appauvris en oxygène à base de bore de haute pureté.

 

  1. Dans la fabrication d’alliages :

Alliage de cuivre au bore de haute pureté, alliage de titane au bore de haute pureté, acier polycristallin au bore de haute pureté, outils ultra-durs et résistants à l’usure au bore de haute pureté, plaques d’acier anticorrosion au bore de haute pureté, alliage de nickel au bore de haute pureté, alliage de chrome au bore de haute pureté, alliage lithium-bore (un nouveau matériau pour batteries), alliage supraconducteur bore-magnésium.

 

  1. Applications du bore cristallin dans l’aérospatiale :

La poudre de bore cristalline de haute pureté peut servir de matériau de nano-revêtement. Déposée par pulvérisation cathodique sur la surface d’un substrat, elle confère aux composants une résistance à l’usure, à la corrosion, aux hautes températures, à l’oxydation et aux intempéries. Ce revêtement répond aux exigences des moteurs soumis aux conditions d’utilisation extrêmement difficiles des secteurs aérospatial et aéronautique, et peut également satisfaire aux besoins spécifiques de l’optoélectronique et d’autres domaines.

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